EUVリソグラフィの発展・課題とレジスト材料・技術の研究・開発動向

サイエンス＆テクノロジー株式会社木下博雄氏 &nbs... 39,600円

第1部では、マスク吸収体材料、Stochastic Errorに対応レジスト、ペリクルなど、新しい材料開発が進むEUVリソグラフィー全体の要素技術・課題・展望について、当技術の先駆者である木下氏が解説。
第2部以降ではレジスト材料技術にフォーカスし、Photon StochasticとChemical Stochastic低減のためのアプローチや、メタル含有レジストの反応機構や課題などをご紹介します。

受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ
※アーカイブは1,2部のみの限定配信
視聴期間：終了翌営業日から7日間［12/8～12/14］を予定
※第３部のアーカイブ配信はございません。

◇◆ZoomによるLive配信　アーカイブ(見逃し)配信付き◇◆
申込み受理の連絡メールに、視聴用URLに関する連絡事項を記載しております。
※セミナー視聴ページは、マイページからお願いいたします。
（S&T会員登録（主催会社のWeb会員（無料））が必須ですので弊社で登録いたします。）

【配布資料】
製本テキスト(開催日の4，5日前に発送予定)
　※セミナー資料はお申し込み時のご住所へ発送させていただきます。

このセミナーを受講すると、こんなスキルが身につきます

第1部　「EUVリソグラフィの要素技術・課題と今後の展望」
　EUVL開発での日本の役割、如何なる技術開発に力点を置くべきか

第2部　「EUVレジストの課題と開発動向」
　EUVリソグラフィの歴史、実現のための課題とその解決検討状況

セミナーの対象者はこんな方です

第1部　「EUVリソグラフィの要素技術・課題と今後の展望」
　材料開発のリーダー、予備知識は不要

第2部　「EUVレジストの課題と開発動向」
　リソ関連、レジスト材料、原材料従事者、特に若い研究員。化学系企画・マーケティング従事者等

会場

講師

プログラム

特典

お知らせ

開催日時

2022/12/07 (水) 10:30～ 16:15 （受付 10:20 ～ )

他の開催日・開催場所（同じ都道府県内）で探す

申込み期間

～ 2022/12/06

主催会社

サイエンス＆テクノロジー株式会社

この主催会社の他の最新セミナーを見る

定員

30名

受講料

39,600円 (Live配信/WEBセミナー受講限定）

開講場所

【ZoomによるLive配信セミナー】1,2部のみアーカイブ付
※会社・自宅にいながら受講可能です※　

講師

木下博雄氏: 兵庫県立大学名誉教授　工学博士
【専門】X線光学、微細加工

藤森亨　氏: 富士フイルム(株)　エレクトロニクスマテリアルズ研究所　シニアエキスパート　
【専門】有機合成化学、有機化学、リソグラフィ、フォトレジスト

古澤孝弘　氏: 大阪大学　産業科学研究所　教授　工学博士　
【専門】応用ビーム工学

カリキュラム、
プログラム

第1部　「EUVリソグラフィの要素技術・課題と今後の展望」　(10:30～12:00)

［趣旨］
　2017年EUV光源パワーが250Wを達成したことにより、2019年の7nmノードからの本格的な量産が開始された。現在5nmノードまで進展し、Critical　layer数層から10数層へと加工領域が広がっており、Smart phone等のMobile機器で身近に微細化の恩恵に預かっている。TSMCの5nmノードからはDouble Patterningの導入、2025年にはNA0.55のHigh NA機が登場し、さらなる微細化が顕著となり、マスク吸収体材料、Stochastic　Errorに対応したレジスト材料、ペリクルなど新しい材料開発が進められている。本講演では現状と今後の課題を簡潔にお話したい。

［プログラム］
１．EUVリソグラフィー開発小史

２．EUVリソグラフィーの要素技術と課題

３．今後のDevice加工の推移とEUVLの役割

４．半導体開発の地政学

５．今後の開発課題
　5.1 マスク吸収体厚の低減と微細化
　5.2 多層膜の寿命拡大への試み
　5.3 Pellicle膜の開発
　5.4 その他

６．高NA機の概要と現状

７．まとめ

　　□質疑応答□

［キーワード］
　EUVL, Source, Mask, Resist, Multilayer, Hydrogen damage
［参考図書］
　Extreme Ultraviolet Lithography, Principle and Basic Technologies, Hiroo Kinoshita, 2021.9（2nd version）

第2部　「EUVレジストの課題と開発動向」　(13:00～14:30)

［趣旨］
　電子デバイスのさらなる高速化・大容量化・省電力化に不可欠なEUVレジストは、長い年月を経て2019年に量産適用に至った。しかしながら、期待されるEUVレジストの性能には遠く課題山積である。EUVレジストの課題と開発動向に関し解説する。

［プログラム］
１．私たちの世の中を取り巻く環境の変化

２．EUVリソグラフィの必要性

３．EUVリソグラフィの歴史

４．EUVリソグラフィ実現のための国家プロジェクトEIDECでの検討
　4.1 アウトガス問題の解決と世界アライン
　4.2 メタルレジストの開発

５．EUVレジストの課題、最新動向、技術開発の紹介
　5.1 ストカスティック（確率論的）因子低減と量産適用に対する開発
　5.2 ストカスティックの分析、Photon StochasticとChemical Stochasticの解説
　5.3 Photon StochasticとChemical Stochastic低減のためのアプローチ

　　□質疑応答□

［キーワード］
　EUVリソグラフィ、半導体、EUVレジスト、ストカスティック

第3部　「放射線化学に基いたメタル含有レジストの研究」　(14:45～16:15)

［趣旨］
　EUVリソグラフィにおいて、次世代サブ10 nmHP用（オングストロームノード用）として期待されるメタル含有レジストの反応機構と課題について解説します。

［プログラム］
１．レジストとは

２．次世代レジストの課題

３．レジストの像形成機構

４．なぜ、メタルが必要か

５．光吸収と光電子放出

６．二次電子と減速過程と熱化

７．熱化電子の還元作用

８．放射線化学反応

９．溶解度変化のメカニズム

１０．課題

１１．まとめ

　　□質疑応答□

特典

アーカイブ(見逃し)配信について　（1,2部のみの限定配信）
視聴期間：終了翌営業日から7日間［12/8～12/14］を予定
※第３部のアーカイブ配信はございません。
※アーカイブは原則として編集は行いません
※視聴準備が整い次第、担当から視聴開始のメールご連絡をいたします。
(開催終了後にマイページでご案内するZoomの録画視聴用リンクからご視聴いただきます）

セミナー参加費
支払い方法

　○ お支払方法

オンラインセミナーは銀行振込みのみです。

会場受講の場合に限り、会場で現金またはクレジットカードでのお支払いが可能です。

会場でクレジットカード支払いの場合は、通信欄に「会場でカード支払い」をご入力ください。

　○ キャンセルについて

お申込み後、ご都合が悪くなった場合は代理の方のご受講も可能です。

やむなくキャンセルされる場合は、下記のキャンセル規定にて承ります。

その他、申込み要領は下記をご参照ください。

https://www.science-t.com/seminarentryguide/

お知らせ

※各種割引がございます。併用はできません。

【テレワーク応援キャンペーン】
　受講料 39,600円（税込）（S&TのE-mail案内登録の場合：37,620円（税込）)
　※１名でLive配信/WEBセミナーを受講する場合、上記特別価格になります。

【2名同時申込みで1名分無料】
　１名あたり定価”55,000円の半額”27,500円（税込）
　※2名ともS&TのE-mail案内登録が必須で、同一法人内に限ります。
　※3名様以上のお申込みの場合、上記１名あたりの金額で受講できます。

【アカデミー割引】
※学生・教員および医療従事者は、1名につき11,000円/日

■■■お申込み時の注意（割引適用）■■■
BC-seminarからお申込みされますと、システム登録上、定価が表示されますが、
割引希望の方には下記をもって適用しますのでご安心ください。
各割引適用には、弊社のE-mail案内が必須となりますので、通信欄に
「E-mail案内希望：する／しない」をご入力ください。
また受講は、S&T会員登録（主催会社のWeb会員）が必須ですので弊社で登録いたします。

弊社より“お申込みメール”をお送り致しますので、こちらの到着をもって正式に手続き完了となります。