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開催日 2022/07/22 (金) 開催地 WEB配信型ライブセミナー

~基礎から課題およびその対策まで~

半導体製造プロセスにおけるイオン注入とアニール技術【LIVE配信】

主催 株式会社R&D支援センター 講師 鈴木 俊治 氏 受講料 49,500円   

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MOSトランジスタを用いたLSIの作製で重要な役割を果たす不純物のイオン注入と、その不純物を活性化させるためのアニール技術について、MOS ICの微細化との関連を中心として解説してゆく。イオン注入技術ではその原理と装置の構造、および、MIS ICの微細化に対応するイオン注入技術の課題とその対策を示す。

アニール技術では、MOS ICの微細化に対応するアニールの手法、イオン注入によって導入されるSi結晶欠陥のアニールによる回復の過程を解説する。MOS IC以外のデバイス作製のためのイオン注入技術についても簡単に紹介する。

このセミナーを受講すると、こんなスキルが身につきます

習得できる知識

・MOS IC作成のためのイオン注入技術の詳細と課題
・微細化MOSトランジスタのイオン注入技術に対する要求
・イオン注入により破壊された結晶を回復させるアニールの手法
・アニールによる結晶回復の過程に関する知識

セミナーの対象者はこんな方です

半導体関連の材料・デバイス・装置メーカーなどの主に若手~中堅の研究者・開発者・技術者・製造担当者
  特典
開催日時 2022/07/22 (金)     13:00~ 17:00    

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申込み期間  ~ 2022/07/21
主催会社 株式会社R&D支援センター
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定員 15名
受講料 49,500円
開講場所 ※本セミナーはZoomを使ったLIVE配信セミナーです。
ご自宅や職場のノートPCで受講できます。 
※会社やご自宅でご受講下さい。
講師
鈴木 俊治 氏 講師写真

鈴木 俊治 氏

サクセスインターナショナル(株) 技術顧問 工学博士

カリキュラム、
プログラム
プログラム

1.イオン注入技術の歴史

2.CMOS ICの微細化
 ~MOSトランジスタの微細化とその構造変化に対応するイオン注入技術~

3.イオン注入技術
 ・イオン注入の原理と装置構造
 ・CMOS ICでのイオン注入の適用
 ・イオン注入に伴う問題と対策
   -イオンビーム精度
   -チャネリング
   -チャージアップ
   -ビームBrow up
   -金属汚染
   -注入損傷
 ・その他のイオン注入技術
   -CMOSイメージセンサー
   -パワーデバイス、など

4.アニール技術
 ・アニール手法(電気炉アニール、光アニール)
 ・注入不純物の活性化過程
 ・結晶の回復と2次欠陥の生成、展開
 ・光アニール技術の課題

5.イオン注入に関連する解析技術
 ・不純物濃度分布
 ・キャリアの濃度分布
 ・結晶性解析
 ・汚染解析

【質疑応答】
セミナー参加費
支払い方法
銀行振込か会場にて現金でお支払いください。



銀行振込みの場合、原則的に領収書は発行いたしません。

領収書をご希望の場合は、当日会場で受講料をお支払いください。



クレジットカードはご利用いただけません。
お知らせ 資料付


・2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,500円(2人目無料)です。


持参物
受講にはWindowsPCを推奨しております。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。


1)Zoomを使用されたことがない方は、
ミーティング用Zoomクライアントをダウンロードしてください。
ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。

2)セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。

3)開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。
当日のセミナー開始10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLより
WEB配信セミナーにご参加ください。

・セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
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