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開催日 2022/11/29 (火) 開催地 WEB配信型ライブセミナー

~洗浄メカニズムと歩留低下技術・汚染制御技術・次世代の洗浄技術~

半導体デバイスにおける 洗浄技術の基礎と技術動向、今後の課題

主催 サイエンス&テクノロジー株式会社 講師 白水 好美 氏 受講料 35,200円   

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受講可能な形式:【Live配信】のみ

半導体の微細化に伴い、より重要となってくる洗浄技術
次世代半導体に対応するための汚染制御・洗浄乾燥技術とは・・・
洗浄技術の基礎から歩留改善のための技術について経験豊富な講師がわかりやすく解説します

◇◆◇◆本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。◇◆◇◆
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【配布資料】
製本テキスト(開催前日着までを目安に発送)
※お申し込み時のご住所へ発送させていただきます。
※開催日の4~5日前に発送します。

このセミナーを受講すると、こんなスキルが身につきます

・半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できる
・最新の洗浄液技術を習得できる

セミナーの対象者はこんな方です

研究開発および製造業務にたずさわっている中堅、若手や新人の方対象です
※特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします
  特典
開催日時 2022/11/29 (火)     13:00~ 16:30     (受付  12:50 ~ )

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申込み期間  ~ 2022/11/28
主催会社 サイエンス&テクノロジー株式会社
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定員 30名
受講料 35,200円 (Live配信/WEBセミナー受講限定)
開講場所 ・会場名: 本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
・住所:  ※会社・自宅にいながら受講可能です※ 
・交通アクセス: 
講師
白水 好美 氏 講師写真

白水 好美 氏

オフィスシラミズ 室長

【専門】
半導体洗浄、クリーン化、微量分析技術、歩留改善

カリキュラム、
プログラム
【セミナー趣旨】
 半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こします。序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。洗浄以外の汚染制御技術に関して紹介します。最後に次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。

【セミナー講演内容】
1.序論-汚染が半導体デバイスに与える影響
 1-0 クリーン化の重要性
 1-1 金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル
 1-2 分子汚染(NH3, アミン, 有機物, 酸性成分)
 1-3 各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術

2.洗浄技術
 2-1 RCA洗浄
 2-2 各種洗浄液と洗浄メカニズム ~薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄~
 2-3 洗浄プロセスの動向
 2-4 最先端の洗浄技術とその問題点

3.その他の汚染制御技術
 3-1 工場設計
 3-2 ウェーハ保管、移送方法

4.次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
 4-1 新洗浄乾燥技術(SCCO2洗浄乾燥, PK剤乾燥)
 4-2 次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題 

  □ 質疑応答 □
セミナー参加費
支払い方法
 ○ お支払方法

オンラインセミナーは銀行振込みのみです。

会場受講の場合に限り、会場で現金またはクレジットカードでのお支払いが可能です。

会場でクレジットカード支払いの場合は、通信欄に「会場でカード支払い」をご入力ください。



 ○ キャンセルについて

お申込み後、ご都合が悪くなった場合は代理の方のご受講も可能です。

やむなくキャンセルされる場合は、下記のキャンセル規定にて承ります。

その他、申込み要領は下記をご参照ください。

https://www.science-t.com/seminarentryguide/
お知らせ ※各種割引がございます。併用はできません。

【テレワーク応援キャンペーン】
 受講料 35,200円(税込)(S&TのE-mail案内登録の場合:33,440円(税込))
 ※1名でLive配信/WEBセミナーを受講する場合、上記特別価格になります。

【2名同時申込みで1名分無料】
 1名あたり定価”44,000円の半額”22,000円(税込)
 ※2名ともS&TのE-mail案内登録が必須で、同一法人内に限ります。
 ※3名様以上のお申込みの場合、上記1名あたりの金額で受講できます。

【アカデミー割引】
※学生・教員および医療従事者は、1名につき11,000円/日

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