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開催日 2023/10/11 (水) 開催地 WEB配信型ライブセミナー

半導体製造における各種汚染の影響と洗浄技術の基礎および技術トレンド【LIVE配信】

主催 株式会社R&D支援センター 講師 白水 好美 氏 受講料 49,500円   

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基礎から次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術まで！
従来の洗浄（薬液VS純水）から最近の洗浄、目的別洗浄など詳解！


半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こす。序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。
それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。洗浄以外の汚染制御技術に関して紹介します。
最後に次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。洗浄技術は半導体デバイスの品質の向上のために必要である。洗浄の意義を一緒に考えましょう！

このセミナーを受講すると、こんなスキルが身につきます

習得できる知識

半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できます。
最新の洗浄液技術を習得できます
  特典
開催日時 2023/10/11 (水)     13:00～ 17:00    

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申込み期間  ～ 2023/10/10
主催会社 株式会社R&D支援センター
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定員 30名
受講料 49,500円
開講場所 ・会場名：　本セミナーはZOOMを使ったLIVE配信セミナーです
・住所：　【WEB限定セミナー】 ※会社やご自宅でご受講下さい。　
・交通アクセス：　ご自宅や職場のノートPCで受講できます。
講師
白水 好美 氏 講師写真

白水 好美 氏

オフィスシラミズ　室長　博士(工学)

SEMI シリコンウェーハ委員会テストメソッドタスクフォース委員
SDRJ ＆ IDRS　歩留向上委員会メンバー
2008年5月　公益社団法人空気清浄協会　感謝状　
2013年12月　SEMI　JRSC(日本地区スタンダード委員会) 功労賞
カリキュラム、
プログラム		 プログラム

１．序論－汚染が半導体デバイスに与える影響
　1-0 クリーン化の重要性
　1-1　金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル
　1-2　分子汚染(NH3, アミン, 有機物, 酸性成分)
　1-3　各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術

２．洗浄技術
　2-1　RCA洗浄
　2-2　各種洗浄液と洗浄メカニズム-薬液系洗浄　vs. 純水系洗浄
　2-3　洗浄プロセスの動向
　2-4　乾燥技術
　2-5　最先端の洗浄技術とその問題点

３．その他の汚染制御技術
　3-1　工場設計
　3-2　ウェーハ保管、移送方法

４．次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
　4-1　新洗浄乾燥技術(SCCO2洗浄乾燥, PK剤乾燥)
　4-2　次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題


【Zoomを使ったWEB配信セミナー受講の手順】

１．Zoomを使用されたことがない方は、ミーティング用Zoomクライアントをダウンロードして下さい。ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。

２．セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。セミナー開始直前のトラブルについては対応いたしかねますのでご了承下さい。

３．開催日の数日前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLよりWEB配信セミナーにご参加下さい。
セミナー参加費
支払い方法		 銀行振込か会場にて現金でお支払いください。



銀行振込みの場合、原則的に領収書は発行いたしません。

領収書をご希望の場合は、当日会場で受講料をお支払いください。



クレジットカードはご利用いただけません。
お知らせ ・資料付

・セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。

・2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,500円（2人目無料）です。


持参物

受講にはWindowsPCを推奨しております。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。


・キャンセルについて
原則としてキャンセルはお受けいたしかねます。
ご都合により出席できなくなった場合は代理の方がご出席ください。

代理の方が見つけられない場合、セミナー開催日より、
営業日で8日前までに限りキャンセルを承ります。
8日を過ぎますと欠席扱いとし、受講料の全額をお支払いいただきます。
ご欠席の場合は後日、セミナーで使用したテキストをお送りいたします。
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